【摘 要】
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用闪蒸—沉积方法制备了LaNi_5、SmCo_5和LaCo_5薄膜。在氢气氛中测量了这些薄膜的电阻。在石英基片上生成的薄膜是非晶态的。吸氢过程中,电阻开始对上升,然后下降。放氢过程
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用闪蒸—沉积方法制备了LaNi_5、SmCo_5和LaCo_5薄膜。在氢气氛中测量了这些薄膜的电阻。在石英基片上生成的薄膜是非晶态的。吸氢过程中,电阻开始对上升,然后下降。放氢过程中观察到了可逆现象。还研究了薄膜厚度对电阻的影响及吸氧的动力学。
LaNi_5, SmCo_5 and LaCo_5 thin films were prepared by flash-deposition method. The resistance of these films was measured in a hydrogen atmosphere. Films generated on quartz substrates are amorphous. During hydrogen absorption, the resistance starts to rise, then drops. Reversal phenomenon was observed during the discharge of hydrogen. The effects of film thickness on the resistance and the oxygen absorption kinetics were also studied.
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