【摘 要】
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在Al_2O_3衬底上GaN的APMOCVD生长缪国庆,元金山,朱景义,李玉琴,洪春荣(中国科学院长春物理研究所,长春130021)含氮回一V族化合物(包括GaN、AIN、InN和GaAIN)是直接带隙半导体材料,它们的禁带宽度可以从1.9eV到6.2...
Growth of GaN
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在Al_2O_3衬底上GaN的APMOCVD生长缪国庆,元金山,朱景义,李玉琴,洪春荣(中国科学院长春物理研究所,长春130021)含氮回一V族化合物(包括GaN、AIN、InN和GaAIN)是直接带隙半导体材料,它们的禁带宽度可以从1.9eV到6.2...
Growth of GaN by APMOCVD on Al_2O_3 Substrates Miao Guoqing, Yuan Jinshan, Zhu Jingyi, Li Yuqin, Hong Chunrong (Changchun Institute of Physics, Chinese Academy of Sciences, Changchun 130021) Nitrogen back to a group V compound (including GaN, AIN, InN and GaAIN) Band gap semiconductor materials, their band gap can be from 1.9eV to 6.2 ...
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