SmCo/Cr磁性薄膜的工艺与性能

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通过对磁控溅射条件的优化,制备出了较理想的SmCo(Al,Si)/Cr硬盘磁记录介rn质。退火处理后又得到较好的硬磁薄膜。结果表明,Sm含量在31.6% atm,Cr缓冲层为66 nm,rnSm(CoAlSi)5磁性层为30 nm等条件下,制得的Sm(CoAlSi)5/Cr薄膜的矫顽力(Hc)为187.8 kA/rnm(2.36 kOe),矩形比( S=Mr/Ms)≈0.94;在500℃保温25 min退火后,矫顽力(Hc)达1042.5rnkA/m(13.1 kOe),矩形比(S)≈O.92。“,”Sm (CoAlSi)5/Cr films had been prepared as one kind of promising materials for the ultrarnhigh density magnetic recording media by magnetron sputtering under the optimal conditions. They are rnalso suitable for a variety of applications, from longitudinal recording media to thin film permanent rnmagnets, through being annealed. When Sm content, Cr underlayer thickness and the thickness of Sm rn(CoAlSi)5 magnetic thin film equals 31.6% atm, 66 nm and 30 nm, respectively, Sm(CoAlSi)5/Cr thin rnfilms with coercivity up to 2.36 kOe, Squareness ratio S nearly 0. 94. After being annealed at 500℃ for rn25 min, the films with coercivity Hc up to 13.1 kOe, Squareness ratio S about 0.92 were obtained.
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