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为了研究玉米苗期叶片叶绿素光照强度响应的遗传规律，本研究以玉米骨干自交系K22与Dan340为父母本构建的192个重组自交系作为研究材料，采用完备区间作图法（ICIM），对苗期玉米不同叶片黑暗处理前后叶绿素指数SPAD进行了QTL定位分析。分析结果共检测到位于1号、2号、5号、6号、8号染色体的19个QTL，单个QTL可解释4．80％～14．32％的表型变异。其中黑暗处理前分别定位到位于1号、2号、5号、6号染色体的10个QTL，黑暗处理后共检测到位于1号、5号和8号染色体的5个QTL；同时以黑暗处理前后