用接触曝光法制作亚微米电极与1.1千兆赫振荡器的探讨

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本文介绍采用一般光刻接触印刷法成功地制作了0.7微米线宽声表面波叉指换能器,以及0.7微米线宽声表面波滤波器和1.1千兆赫声表面波延迟线振荡器的特性。还介绍了实验条件:光掩模、叉指换能器图形、光致抗蚀剂、掩模调整及照像工艺等。 This article describes the successful fabrication of 0.7 micron linewidth SAW interdigital transducers using general photolithographic contact printing, as well as the properties of 0.7 micron linewidth SAW filters and 1.1 GHz SAW delay line oscillators. Also introduced the experimental conditions: photomask, interdigital transducer graphics, photoresist, mask adjustment and photographic process.
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