【摘 要】
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CVD 技术是半导体器件和电路制造中应用最广泛的重要技术之一,本文首先阐述了薄膜 CVD 技术的特点、原理和装置,然后着重讨论了 CVD技术从常压 CVD 向低压 CVD 和等离子体激
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CVD 技术是半导体器件和电路制造中应用最广泛的重要技术之一,本文首先阐述了薄膜 CVD 技术的特点、原理和装置,然后着重讨论了 CVD技术从常压 CVD 向低压 CVD 和等离子体激活 CVD 技术的新发展,最后对各种 CVD 技术进行了比较。
CVD technology is one of the most widely used and important technologies in the fabrication of semiconductor devices and circuits. Firstly, the characteristics, principles and devices of thin film CVD are described. Then, the emphasis is put on the CVD technology from low pressure CVD and plasma activated CVD The new development of technology, the final comparison of various CVD technologies.
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