深亚微米工艺下互连线串扰问题的研究与进展(英文)

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集成电路工艺发展到深亚微米技术后 ,互连线串扰问题变得越来越严重 ,尤其在千兆赫兹的设计中 ,耦合电感的影响不能忽略 .插入屏蔽的操作成为减小耦合电感噪声的有效方法 .文中首先介绍共面、微带状线和带状线三种互连结构下的电感耦合特性 ,然后分别介绍了基于共面互连结构的用于计算互连线噪声的 Keff模型和 RL C精确噪声模型 .实验表明两种模型都有很高的精确度 ,在解决互连线串扰的物理设计中有广泛的应用 Interconnection crosstalk has become more and more serious as IC technology evolves into deep submicron technology, especially in gigahertz designs where the effects of coupled inductors can not be ignored. Inserting shielded operation reduces the coupling noise Effective method.The inductive coupling characteristics of coplanar, microstripline and stripline are first introduced in this paper, and then the Keff model based on coplanar interconnect structure for computing interconnect noise is introduced respectively RL C accurate noise model.Experiments show that both models have high accuracy and are widely used in the physical design of interconnect crosstalk
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