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本文简要介绍了国产光谱干版的去底涂布工艺实验技术。提出了在去底层涂布工艺过程中，采用稳定剂５８３、调整有机硅烷偶联剂ＫＨ－５５０的ｐＨ值、偶联剂溶液的静置处理等措施是抑制光谱干乳剂灰雾增长的途径。
抑制有机硅烷偶联剂KH—550在光谱干版乳剂中增长灰雾的途径
【摘 要】
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本文简要介绍了国产光谱干版的去底涂布工艺实验技术。提出了在去底层涂布工艺过程中，采用稳定剂５８３、调整有机硅烷偶联剂ＫＨ－５５０的ｐＨ值、偶联剂溶液的静置处理等措施是抑制光谱干乳剂灰雾
【机 构】
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天津远大感材料公司
【出 处】
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影像技术
【发表日期】
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2000年4期
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