【摘 要】
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纳米SiO2粉体的制备是以硅酸钠和盐酸为原料,添加适宜的稳定剂(非离子表面活性剂)和分散剂,在适宜的pH值和温度下,采用化学沉淀法合成.研究表明,要得到性能优良纳米的SiO2粉
【机 构】
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解放军军需大学军需工程系,中国科学院研究生院。北京100039
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纳米SiO2粉体的制备是以硅酸钠和盐酸为原料,添加适宜的稳定剂(非离子表面活性剂)和分散剂,在适宜的pH值和温度下,采用化学沉淀法合成.研究表明,要得到性能优良纳米的SiO2粉体,最佳工艺条件为:温度20～40 ℃,pH=6,反应液质量浓度P1=20 g/L,P2=1.20 g/L,反应时间15 min.结果表明:制备的纳米SiO2粒径30～50 nm,比表面积大,分散性好,质量优良,可达到产业化的生产.
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