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目前,光掩膜清洗技术很容易导致光掩膜出现Haze缺陷问题,因此本文在传统光掩膜清洗技术基础之上,严格把控清洗程序,提高清洗良率达到99％以上并有效解决Haze缺陷问题.
基于Haze缺陷降低的光掩膜清洗技术的新型工艺
【摘 要】
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目前,光掩膜清洗技术很容易导致光掩膜出现Haze缺陷问题,因此本文在传统光掩膜清洗技术基础之上,严格把控清洗程序,提高清洗良率达到99％以上并有效解决Haze缺陷问题.
【机 构】
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深圳清溢光电股份有限公司,广东 深圳 518000
【出 处】
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中国化工贸易
【发表日期】
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2020年30期
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