【摘 要】
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一、研究背景 1972年,英国的朗克精密机械公司发表了型号为Microliner的接近式掩模对准仪,后来,又有二、三家公司也发表了同样的接近式掩模对准仪。但是,这些掩模对准仪,由
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一、研究背景 1972年,英国的朗克精密机械公司发表了型号为Microliner的接近式掩模对准仪,后来,又有二、三家公司也发表了同样的接近式掩模对准仪。但是,这些掩模对准仪,由于存在下述技术问题,所以尚不能实际应用于批量生产过程。这些技术问题是: 1.因光刻性能不好,所以只能用于间隙很小的情形(7μ左右)。
First, the research background In 1972, the United Kingdom Lancaster published Microliner Model Proximity Mask Aligner, and later, two or three companies also published the same close-type mask aligner. However, these mask aligners are not yet practically used in mass production because of the following technical problems. These technical issues are: 1. Due to poor lithography, it can only be used for small gaps (7μ or so).
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