【摘 要】
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用液晶显示、自愈合介质击穿和C-V测试等技术对V形槽壁上热生长二氧化硅膜进行了质量检测.检测结果表明,只要采用恰当的工艺,V形槽腐蚀并不伤害槽壁上热生长的二氧化硅膜.
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【机 构】
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华东师范大学物理系,华东师范大学物理系,华东师范大学物理系,华东师范大学物理系
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用液晶显示、自愈合介质击穿和C-V测试等技术对V形槽壁上热生长二氧化硅膜进行了质量检测.检测结果表明,只要采用恰当的工艺,V形槽腐蚀并不伤害槽壁上热生长的二氧化硅膜.
The quality of the thermally grown silicon dioxide film on the V-shaped groove wall was examined by liquid crystal display, self-healing dielectric breakdown and CV test techniques, etc. The results showed that the V-groove corrosion did not hurt the groove as long as the proper process was adopted Thermal growth of silicon dioxide film on the wall.
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