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本文从原理和实验两个方面,研究了应用硅酸铋(Bi_(12)SiO_(20))光电晶体作为全息记录材料和运用三个干涉图方法在计算机控制的全息装置上自动计算全息图的实时全息术。并测量了二元胶体在长达4个小时的硬化过程中各个时刻的胶层厚度变化。
用实时全息术测量胶体在硬化过程中的厚度变化
【摘 要】
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本文从原理和实验两个方面,研究了应用硅酸铋(Bi_(12)SiO_(20))光电晶体作为全息记录材料和运用三个干涉图方法在计算机控制的全息装置上自动计算全息图的实时全息术。并测量了二元胶体在长达4个小时的硬化过程中各个时刻的胶层厚度变化。
【机 构】
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长春光学精密机械学院InstfürTechnischeOptik,Univ.Stuttgart,WestGermany
【出 处】
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光学学报
【发表日期】
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1987年7期
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