2005年《真空》杂志论文题录索引

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光催化TiO2薄膜的溅射沉积技术………………………姜燮昌1(1)真空铸造技术的研究现状……………………………王新,等1(6)靶基距对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜光学性质的影响……………………………………………………………王贺权,等1(11)采用真空电弧源镀制纳米TiO2薄膜研究 Sputtering Deposition Technology of Photocatalytic TiO2 Thin Films ........................... Jiang Xiechang 1 (1) Research Status of Vacuum Casting Technology Wang Xin et al 1 (6) Target base Effect on the Optical Properties of TiO2 Thin Films Prepared by DC Reactive Magnetron Sputtering ................................................................................................................................................................................................................................. Preparation of nano-TiO2 film
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