【摘 要】
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本文前半部分详细地介绍了紫外线、电子束、X射线光刻的目前水平和近几年的发展趋势。并介绍了几种腐蚀方法(主要是干式腐蚀方法)。文章第二部分谈到了高密度和微细加工的关
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本文前半部分详细地介绍了紫外线、电子束、X射线光刻的目前水平和近几年的发展趋势。并介绍了几种腐蚀方法(主要是干式腐蚀方法)。文章第二部分谈到了高密度和微细加工的关系,具体报导了高密度器件的目前水平和今后几年能达到的水平。
The first half of this paper introduces the current level of UV, electron beam, X-ray lithography and the development trend in recent years. Several corrosion methods are introduced (mainly dry etching methods). The second part of the article deals with the relationship between high density and microfabrication, specifically reporting the current levels of high-density devices and the levels achievable in the next few years.
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