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来源 :电子工业专用设备 | 被引量 : [!--cite_num--]次 | 上传用户:[!--user--]
【摘 要】
:
在集成电路芯片制造中,激光被广泛应用于缺陷扫描或者相关的光学量测工具中。未见报道低功率的缺陷扫描时,输出功率仅数百毫瓦且扫描速度很快时,会对熔点达1420℃上的硅芯片
【作 者】
:
彭坤
游智星
【机 构】
:
昆明理工大学机电学院,中芯国际集成电路制造有限公司 云南昆明610031 中芯国际集成电路制造有限公司,上海201203,上海201203
【出 处】
:
电子工业专用设备
【发表日期】
:
2007年08期
【关键词】
:
芯片制造
缺陷
激光
损伤
损伤研究
集成电路芯片
输出功率
缺陷扫描
芯片制造业
电容表
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