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系统总结了用于光存储记录层的氧化物薄膜的存储机理、存储特性以及最新进展，讨论了氧化物掺杂对提高存储性能的影响，指出了氧化物薄膜存在的不足，并探讨了可能的改善途径。在此基础上对存储材料的发展趋势及氧化物材料的研究前景进行了展望。
氧化物记录介质在光存储中的应用及其研究进展
【摘 要】
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系统总结了用于光存储记录层的氧化物薄膜的存储机理、存储特性以及最新进展，讨论了氧化物掺杂对提高存储性能的影响，指出了氧化物薄膜存在的不足，并探讨了可能的改善途径。在此
【机 构】
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中国科学院上海光学精密机械研究所
【出 处】
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激光与光电子学进展
【发表日期】
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2007年8期
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