兆声辅助化学机械抛光中振动对抛光液流动的影响

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为了将兆声引入化学机械抛光,进一步提高抛光效率,深入研究了化学机械抛光中兆声对抛光液流动的影响。首先测试抛光头工作表面的轴向振幅,再观察兆声致抛光液流动现象,最后对抛光头中声场和兆声致流场进行理论分析。利用流体力学理论分析讨论兆声致抛光液流动的机理。测试结果表明:抛光头工作表面振动频率为1.7MHz,振幅沿径向减小并伴有振荡,中心处最大振幅接近70nm,这与计算结果基本一致。兆声致抛光液流动实验表明:兆声能有效激励抛光液使其从抛光垫微孔中涌出,涌出量逐渐增大,但流量逐渐减小,渐近至零。这一结果可由兆声致流
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