块体纳米晶工业纯铁在0.4 mol/L HCl溶液中的电化学腐蚀行为

来源 :腐蚀科学与防护技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:shiguanghuai
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借助动电位极化和电化学阻抗谱(EIS)测量,研究块体纳米晶工业纯铁(BNII)和粗晶工业纯铁(CPII)在室温0.4 mol/L HCl溶液中的电化学腐蚀行为;用扫描电子显微镜(SEM)观察腐蚀后的表面形貌.结果表明,与CPII相比,BNII的自腐蚀电位E_(corr)正向移动43 mV,自腐蚀电流I_(corr)由68.37μA·cm~(-2)减小为29.55μA·cm~(-2);电荷转移电阻Rt由427.0Ω·cm~2增大到890.1Ω·cm~(-2).两种材料发生的点蚀呈不同的形态:BNII的点蚀孔小而浅,腐蚀深度比较均匀,而CPII的腐蚀表面形成的点蚀孔深且孔径较大.与CPII相比,BNII在HCl溶液中的耐腐蚀性能明显提高. The electrochemical corrosion behavior of bulk nanocrystalline industrial pure iron (BNII) and coarse-grained industrial pure iron (CPII) in a 0.4 mol / L HCl solution at room temperature was investigated by potentiodynamic polarization and electrochemical impedance spectroscopy (EIS) The corrosion morphology of the BNII was observed by scanning electron microscopy (SEM). The results showed that compared with CPII, BN corrosive corrosion potential E corr moved forward by 43 mV and corrosion current I corr increased from 68.37 μA · cm (-2) to 29.55μA · cm -2, and the charge transfer resistance Rt increased from 427.0Ω · cm 2 to 890.1Ω · cm -2. The pitting corrosion occurred in both materials Different morphology: BNII pitting small and shallow, more uniform depth of corrosion, and CPII corrosion surface pitting hole formed deep and larger pores .Compared with CPII, BNII HCl solution in the corrosion resistance was significantly improved .
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