正离子光固化聚硅氧烷的合成及其环氧树脂复合固化膜的性能

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以含氢聚硅氧烷(PMHS)分别与甲基丙烯酸六氟丁酯(HFMA)和烯丙基缩水甘油醚(AGE),经氯铂酸催化硅氢加成反应将甲基丙烯酸六氟丁酯和烯丙基缩水甘油醚引入聚硅氧烷的侧链,合成了3种含氟量不同的含氟代烃侧基/环氧侧基聚硅氧烷(EFPS),用FTIR、1H-NMR和13C-NMR进行了结构表征,将这类聚硅氧烷与环氧树脂E51复合经正离子光交联反应后制得固化膜,并研究了所得固化膜的热性能、表面性能、吸水性能.研究结果表明,侧链中引入正离子光敏性基团提高了聚硅氧烷与环氧树脂复合组分的交联程度,氟和硅的存在使加入该含氟聚硅氧烷的环氧树脂固化膜的T5%和T50%分别高达337.7℃和463.6℃,600℃处热失重残留率提高到25.6%,表面能从44.1 mJ/m2下降到15.3 mJ/m2,吸水率小于0.5%.经截面微观形貌分析,该聚硅氧烷与环氧树脂呈现部分相容. Hydrogen polysiloxane (PMHS) was reacted with hexafluorobutylmethacrylate (HFMA) and allyl glycidyl ether (AGE), respectively, and the hydrosilylation reaction of chloroplatinic acid was carried out. Hexafluorobutylmethacrylate Ester and allyl glycidyl ether were introduced into the side chains of the polysiloxane to synthesize three kinds of fluorinated hydrocarbon-containing side groups / epoxy-terminated polysiloxanes (EFPS) with different fluorine contents. FTIR, 1H- NMR and 13C-NMR were used to characterize the structure. The cured films were obtained by the photo-crosslinking reaction of these polysiloxanes and epoxy resin E51 by positive ion. The thermal properties, surface properties, water absorption Performance.The results show that the introduction of cationic photosensitive group to the side chain to improve the degree of crosslinking of silicone and epoxy resin composite components, the presence of fluorine and silicon to join the fluorinated polysiloxane ring T5% and T50% of the cured epoxy resin film were as high as 337.7 ℃ and 463.6 ℃, respectively. The residual rate of thermal degradation at 600 ℃ was increased to 25.6%. The surface energy decreased from 44.1 mJ / m2 to 15.3 mJ / m2. The water absorption was less than 0.5%. The cross-section of the micro-morphology analysis, the polysiloxane and epoxy resin showed partial compatibility.
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