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研究了掺杂剂对p型微晶硅窗口材料生长的影响．实验发现，与B(CH3)3不同，B2H6作为微晶硅掺杂剂时，掺硼量对材料的晶化率和生长速率有重要影响．在线等离子体发射光谱分析表明：B2H6的掺入会使辉光光谱中SiH^+等各种离子密度增强，而B(CH3)3作掺杂剂时，随B(CH3)3量的增加，SiH^*峰值增加较少，而H2^*和H^*的峰值会有较大幅度的提升。