GaP薄膜的制备与性能研究

来源 :材料工程 | 被引量 : 0次 | 上传用户：duoduodehua

【摘要】

：

利用磁控溅射法成功地制备出GaP薄膜,并对GaP薄膜的沉积速率、成分、结构及红外光学性能进行了研究.结果表明,沉积薄膜中Ga与P的原子比接近1:1,形成了GaP化合物,呈非晶态结构

【作者】

：

宋建全刘正堂郭大刚耿东生郑修麟

【机构】

：

西北工业大学

【出处】

：

材料工程

【发表日期】

：

2001年10期

【关键词】

：

GaP薄膜射频磁控溅射增透保护膜系制备磷化镓薄膜性能硫化锌基片 gallium phosphide filmsmagnetron sputterin

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利用磁控溅射法成功地制备出GaP薄膜,并对GaP薄膜的沉积速率、成分、结构及红外光学性能进行了研究.结果表明,沉积薄膜中Ga与P的原子比接近1:1,形成了GaP化合物,呈非晶态结构.设计并制备出GaP/DLC复合膜系,结果表明该膜系在8～11.5μm波段对ZnS衬底具有明显的增透效果.制备的GaP薄膜的硬度明显高于ZnS衬底的硬度,且与ZnS衬底结合牢固,可提供良好的保护性能.

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