BN-SiN薄膜陶瓷活塞环

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目前,国内外研制陶瓷活塞环的技术大致有两种,一种是2001年以前采用的老技术,即用火焰喷涂法或高温等离子喷涂法向活塞环的外圆表面及两端面喷涂陶瓷粉;另一种是2001年以后开始采用的新技术,即用低温(低于300℃)等离子化学气相沉积技术(P-CVD)在活塞环的外圆表面及两端面生成一层双向扩散的,
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