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采用分子沉积技术在石英和单晶硅基底上交替吸附带相反电荷的聚二烯丙基二甲基氯化铵（PDDA）和聚对苯乙烯磺酸钠（PSS）制备出初始聚电解质多层膜，在聚电解质多层膜上吸附Cu^2＋且与磺酸根键合于碱性溶液中水解，在聚电解质内原位生成Cu（OH）2纳米微粒，通过多次吸附-水解循环原位生成掺杂Cu（OH）2纳米微粒聚电解质多层膜．采用紫外可见吸收光谱、原子力显微镜及透射电子显微镜分析原位生成Cu（OH）2纳米微粒前后多层膜的结构与形貌，采用LKDM-2000型摩擦磨损试验机评价多层膜的摩擦磨损性能．结果表明：与初