【摘 要】
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采用直流磁控溅射方法,在SiC颗粒表面成功地沉积了金属铜膜。利用场发射扫描电子显微镜（FESEM）、能谱仪（EDS）和电感耦合等离子体发射光谱仪（ICP-AES）等测试仪器对其表面形貌和组份
【机 构】
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北京航空航天大学粉体技术北京市重点实验室,国家纳米技术产业化基地,北京有色金属研究总院
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采用直流磁控溅射方法,在SiC颗粒表面成功地沉积了金属铜膜。利用场发射扫描电子显微镜（FESEM）、能谱仪（EDS）和电感耦合等离子体发射光谱仪（ICP-AES）等测试仪器对其表面形貌和组份进行了表征。重点讨论了不同的沉积条件对薄膜结晶的影响,并用X射线衍射仪（XRD）对其进行了表征。结果表明,溅射镀膜时,通过控制SiC颗粒的运动方式,可以在其表面镀上均匀、连续和致密的金属膜。溅射时间越长或溅射功率越大或温度越高,都有利于薄膜结晶。
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目的观察神经电刺激治疗前庭性偏头痛的临床疗效。方法选取2017年7月～12月就诊于武警总医院眩晕病研究所60例前庭性偏头痛患者,随机分为实验组与对照组,对照组给予药物治疗,实