【摘 要】
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以原位合成的酚醛树脂为碳源、氧化石墨烯片为形貌导向剂,制备石墨烯/碳纳米片,再在500℃、600℃、700℃和800℃下进行KOH活化,探究活化温度对电容性能的影响。用XRD、SEM、
【机 构】
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郑州轻工业大学材料与化学工程学院,北京航空航天大学材料科学与工程学院
【基金项目】
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国家自然科学基金(U1504204);国家重点基础研究发展计划(2013CB934001)
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以原位合成的酚醛树脂为碳源、氧化石墨烯片为形貌导向剂,制备石墨烯/碳纳米片,再在500℃、600℃、700℃和800℃下进行KOH活化,探究活化温度对电容性能的影响。用XRD、SEM、拉曼光谱和低温N2吸脱附实验对样品进行分析,用恒流充放电与循环伏安法进行电化学性能测试。KOH活化不会破坏碳纳米片形貌,提高活化温度,可增加活化样品的比表面积和孔容;随着活化温度的提高,比电容增加;当活化温度超过700℃后,样品的比电容会降低。以0. 2 A/g的电流在0~1 V充放电,活化温度为700℃时,样品(H700)
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