【摘 要】
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晶种法在硅晶片表面生成超薄膜的的一项新兴技术。本实验中主要采取以下两个步骤:首先在浸过标准清洗的硅晶片表面吸附一层不连续的晶种,然后在培养溶液中使得二氧化硅晶体定
【机 构】
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上海第二工业大学环境工程系 上海201209
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晶种法在硅晶片表面生成超薄膜的的一项新兴技术。本实验中主要采取以下两个步骤:首先在浸过标准清洗的硅晶片表面吸附一层不连续的晶种,然后在培养溶液中使得二氧化硅晶体定向从而生成连续的薄膜。对于生产的产物使用XRD、SEM和FT-IR进行表征。
An emerging technology for producing ultra-thin films on the surface of silicon wafers by the seed method. In this experiment, we mainly take the following two steps: First, a layer of discontinuous seed crystals are adsorbed on the surface of the silicon wafer immersed in the standard cleaning, and then the silicon dioxide crystal is oriented in the culture solution to form a continuous thin film. The products produced were characterized using XRD, SEM and FT-IR.
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