【摘 要】
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应用胺基钛源可以降低CVD反应温度,并导出反应机理,指出淀积TiN的热力学可行性条件为P_(H2)=101325Pa,T=360±50℃.
The application of titanium source can reduce the CV
【机 构】
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华东化工学院,华东化工学院,华东化工学院,
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应用胺基钛源可以降低CVD反应温度,并导出反应机理,指出淀积TiN的热力学可行性条件为P_(H2)=101325Pa,T=360±50℃.
The application of titanium source can reduce the CVD reaction temperature and derive the reaction mechanism. It is pointed out that the thermodynamic feasibility of TiN deposition is P_ (H2) = 101325Pa and T = 360 ± 50 ℃.
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