等平面和金属剥离工艺在低电容高可靠晶体管生产中的应用

来源 :辽宁大学学报(自然科学版) | 被引量 : 0次 | 上传用户:nextronnpf
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本文描述了一种等平面工艺和金属剥离技术在低电容、高可靠晶体管生产中的实际应用.通过采用这两种工艺,不仅使得晶体管输出电容减小14%,也使可靠性明显提高.从而满足了微波电路使用的特殊要求 This article describes a practical application of the iso-planar process and the metal stripping technique in the production of low-capacitance, highly reliable transistors. By using both of these processes, the output capacitance of the transistor is reduced by 14% and the reliability is significantly improved. Thus meeting the special requirements of microwave circuits
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