【摘 要】
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本文描述了用溅射粒子捕集器和Rutherford背散射分析测定溅射粒子角分布的实验方法。给出了100keV Ar~+在入射角分别为0°、30°、50°和80°时轰击Ag靶的溅射角分布。角分布
【机 构】
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本文描述了用溅射粒子捕集器和Rutherford背散射分析测定溅射粒子角分布的实验方法。给出了100keV Ar~+在入射角分别为0°、30°、50°和80°时轰击Ag靶的溅射角分布。角分布偏离余弦形状,有前倾趋势。溅射产额随入射角增大而迅速增加。由50keV Ar~+垂直入射Ag的溅射角分布计算出的总溅射产额为16.8±2.4~(atoms)/Ar~+。实验结果与理论值进行了比较,并作了定性分析。
This article describes an experimental method to determine the angular distribution of sputtered particles using a sputter particle trap and Rutherford backscatter analysis. The sputtering angle distribution of Ag target bombarded with 100 keV Ar ~ + at incident angles of 0 °, 30 °, 50 ° and 80 ° are given. Angle deviation from the cosine shape, forward trend. Sputtering yield increases rapidly with increasing incident angle. The total sputtering yield calculated from the sputter angle distribution of 50 keV Ar ~ + vertical incidence Ag is 16.8 ± 2.4 atoms / Ar ~ +. Experimental results and theoretical values were compared, and made a qualitative analysis.
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