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TDL-GX31C型硅芯炉
TDL-GX31C型硅芯炉
来源 :电子元器件资讯 | 被引量 : 0次 | 上传用户:pengweimin
【摘 要】
:
1设备的结构组成和工作原理、性能指标与技术参数及用途rnTDL-GX31C型硅芯炉是改良西门子法-氢气还原三氯氢硅气相沉积法生产多晶硅的辅助生产设备.是改良西门子法还原炉发热
【作 者】
:
西安理工昌体科技有限公司
【出 处】
:
电子元器件资讯
【发表日期】
:
2009年3期
【关键词】
:
硅芯炉
西门子法
生产设备
气相沉积法
性能指标
三氯氢硅
氢气还原
控制设备
结构组成
技术参数
工作原理
改良
发热载体
还原炉
多晶硅
用途
辅助
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1设备的结构组成和工作原理、性能指标与技术参数及用途rnTDL-GX31C型硅芯炉是改良西门子法-氢气还原三氯氢硅气相沉积法生产多晶硅的辅助生产设备.是改良西门子法还原炉发热载体-硅芯的控制设备.rn
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