【摘 要】
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无显影光刻技术是一项半导体器件的新工艺,它简化了工艺流程,在研制和生产大规模集成电路工艺过程中,将显示出其优越性.为了配合探索良好的工艺条件:如光刻胶的用量、曝光时
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无显影光刻技术是一项半导体器件的新工艺,它简化了工艺流程,在研制和生产大规模集成电路工艺过程中,将显示出其优越性.为了配合探索良好的工艺条件:如光刻胶的用量、曝光时间、通氢氟酸的时间和温度等,对光刻胶中氟的含量进行了系统的测定,以此控制工艺流程.
Non-photolithography technology is a new process for semiconductor devices that simplifies the process flow and will demonstrate its superiority in the development and manufacturing of large scale integrated circuits (ICs). In conjunction with exploring good process conditions such as lithography The amount of plastic, exposure time, the time and temperature of hydrofluoric acid, the fluorine content of the photoresist was systematically determined, in order to control the process.
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