【摘 要】
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采用NaClO和IPA体系对单晶硅各向异性腐蚀制备绒面。通过紫外可见光光度计和扫描电镜对硅绒面的反射率、形貌进行了表征。结果表明,当NaClO为10%（质量分数,下同）, IPA为5%,腐蚀
【机 构】
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厦门理工学院材料科学与工程学院,华侨大学材料科学与工程学院
【基金项目】
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福建省中青年教师教育科研项目（JB14077）
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采用NaClO和IPA体系对单晶硅各向异性腐蚀制备绒面。通过紫外可见光光度计和扫描电镜对硅绒面的反射率、形貌进行了表征。结果表明,当NaClO为10%（质量分数,下同）, IPA为5%,腐蚀温度为80℃,腐蚀时间为15 min时,能够得到均匀单晶硅绒面,硅片平均反射率达15%左右；与传统的NaOH/IPA腐蚀体系相比,该工艺制得的单晶硅绒面结构反射率低,有利于太阳能电池性能的提高。
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