退火工艺对La-Nb共掺杂Bi4Ti3O12薄膜结构的影响

来源 :电子元件与材料 | 被引量 : 0次 | 上传用户：rayjoyjoyray

【摘要】

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采用sol-gel法制备了Si基Bi3.25La0.75Ti2.94Nb0.06O12.03（BLTN）铁电薄膜，研究了退火温度、升温速率和退火时间对BLTN薄膜微观结构的影响。结果表明：制备的BLTN薄膜具有单一的钙

【作者】

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张云峰王华任明放

【机构】

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桂林电子科技大学信息与通信学院,桂林电子科技大学信息材料科学与工程系

【出处】

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电子元件与材料

【发表日期】

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2008年6期

【关键词】

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无机非金属材料铁电薄膜 BLTN 微观结构退火温度升温速率退火时间 inorganic non-matellic materials ferroele

【基金项目】

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国家自然科学基金资助项目（No.50262001）

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采用sol-gel法制备了Si基Bi3.25La0.75Ti2.94Nb0.06O12.03（BLTN）铁电薄膜，研究了退火温度、升温速率和退火时间对BLTN薄膜微观结构的影响。结果表明：制备的BLTN薄膜具有单一的钙钛矿结构，且为随机取向，表面平整致密；退火温度由550℃升高到750℃时，薄膜的衍射峰强度增强，晶粒尺寸由65nm增大到110nm；退火升温速率由10℃／min提高为20℃／min时，薄膜的晶化程度降低；退火时间对薄膜的晶相结构影响不大，但时间超过30min会造成薄膜表面孔洞增多、致密性下降

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