一种新的非晶钝化膜a—Si_xC_(1-x)∶H膜

来源 :兰州大学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:sirius1394
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本文介绍了一种新的钝化膜——a-Si_xC_(1-x)∶H薄膜在硅器件表面上的应用,实验结果表明:这种膜的钝化效果和a—Si∶H类似,在某些方面更好些,文中还对这种膜的钝化机理作了初步探讨。 This paper introduces a new passivation film - a-Si_xC_ (1-x): H thin film on the silicon device surface application, the experimental results show that: This film passivation effect and a-Si: H similar, In some aspects better, the paper also made a preliminary discussion of the passivation mechanism of this film.
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