用正电子湮没技术研究Cr和Nb对TiAl合金中缺陷和d-d电子相互作用的影响

来源 :稀有金属材料与工程 | 被引量 : 0次 | 上传用户:lizhihua511352981
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测量Al,Si,Ti,Cr,Nb等纯元素以及Tj50Al50,Ti50Al48Cr2,Ti50Al48Nb2合金的符合正电子湮没辐射多普勒展宽谱和寿命谱,获得金属及合金中d电子和缺陷的信息。结果表明,二元TiAl合金的电子密度和3d电子的信号较低,晶界缺陷的开空间较大。在TiAl合金中加入Cr或Nb,合金中的d-d电子作用增强,基体和晶界处的电子密度均增加。Ti50Al48Cr2合金的多普勒展宽谱的d电子信号高于Ti50Al48Nb2合金。讨论了Cr和Nb对TiAl合金中缺陷和d-d电子相互作用的影响。
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