【摘 要】
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据《科技日报》2005年8月19日报道:日前,中国科学院半导体研究所科研人员在新型高速直接数字频率合成(DDS)芯片研制中取得突破性进展,采用0. 35微米常规互补金属氧化物半导体
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据《科技日报》2005年8月19日报道:日前,中国科学院半导体研究所科研人员在新型高速直接数字频率合成(DDS)芯片研制中取得突破性进展,采用0. 35微米常规互补金属氧化物半导体电路(CMOS)工艺,研制出合成时钟频率达
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