【摘 要】
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The N-channel silicon gate MOS memory devices composed of more than 1K-bit chips have the advantage of highspeed and high density. This paper describes the expe
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The N-channel silicon gate MOS memory devices composed of more than 1K-bit chips have the advantage of highspeed and high density. This paper describes the experimental results of individual N-channel silicon gate devices, With emphasis upon the deposition technique of polysilicon, HCI-oxidation process and reduction of the leakage current. The HCI-oxidation reduces the contamination of sodium ions, thus the control of threshold voltage is realized. The measured devices parameters are given at the end of the paper.
The N-channel silicon gate MOS memory devices composed of more than 1K-bit chips have the advantage of highspeed and high density. This paper describes the experimental results of individual N-channel silicon gate devices, With emphasis upon the deposition technique of polysilicon, HCI-oxidation process and reduction of the leakage current. The HCI-oxidation reduces the contamination of sodium ions, thus the control of threshold voltage is realized. The measured devices parameters are given at the end of the paper.
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