【摘 要】
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在化学机械抛光(CMP)中,为了提高氧化铝磨料的分散稳定性及减少抛光划痕,通过硅烷偶联剂在其表面接枝了聚甲基丙烯酸(PMAA)制得了一种新型的复合粒子(-αAl2O3-g-PMAA)。SEM
【机 构】
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在化学机械抛光(CMP)中,为了提高氧化铝磨料的分散稳定性及减少抛光划痕,通过硅烷偶联剂在其表面接枝了聚甲基丙烯酸(PMAA)制得了一种新型的复合粒子(-αAl2O3-g-PMAA)。SEM结果表明,制得的复合粒子分散稳定性明显提高。进而用SPEEDFAM-16B-4M抛光机研究了其在玻璃基片中的抛光性能。抛光后玻璃基片表面的ZYGO表面形貌仪和AFM分析结果表明,在相同的抛光条件下,与纯Al2O3磨料相比,所制得的复合粒子表现出了低的表面粗糙度及划痕。该复合粒子可望用做新型CMP磨粒。
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