【摘 要】
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半导体工艺进入０．２５μｍ时代，对溅射设备的微细化技术要求逐步接近极限。同时，设备投资效率的提高也是一个十分关键的环节，不仅要提高产量。还要提高包括保养时间在内的生产效率。日本
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半导体工艺进入０．２５μｍ时代，对溅射设备的微细化技术要求逐步接近极限。同时，设备投资效率的提高也是一个十分关键的环节，不仅要提高产量。还要提高包括保养时间在内的生产效率。日本真空技术公司的ＣＥＲＡＵＳＺＸ－１０００即属满足这种时代要求的设备。
Semiconductor technology into the 0.25μm era, the miniaturization of sputtering equipment technology requirements gradually approaching the limit. At the same time, the improvement of equipment investment efficiency is also a very crucial part, not only to increase production. But also to improve production efficiency, including maintenance time. CERAUSZX-1000 from Japan Vacuum Technology Co., Ltd. is a device that meets the requirements of this era.
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