【摘 要】
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麻省理工学院林肯实验室的１９３ｎｍ光刻麻省理工学院林肯实验室正在发展１９３ｎｍ光刻，其目标是：使０．２５μｍ光刻达到工业应用，并能使之扩展到优于０．１８μｍ．此技术利用ＡｒＦ准分子激光器发出的１９３．４ｎｍ的光进行光刻．此项目在林
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麻省理工学院林肯实验室的１９３ｎｍ光刻麻省理工学院林肯实验室正在发展１９３ｎｍ光刻，其目标是：使０．２５μｍ光刻达到工业应用，并能使之扩展到优于０．１８μｍ．此技术利用ＡｒＦ准分子激光器发出的１９３．４ｎｍ的光进行光刻．此项目在林肯实验室已进行了５年...
193nm MIT Lincoln Laboratory at MIT Lincoln Laboratory is developing 193nm lithography with the goal of making 0.25μm lithography for industrial applications and enabling it to expand to better than 0.18μm. This technique uses 193.4 nm light emitted by an ArF excimer laser for photolithography. This project has been in Lincoln Lab for 5 years ...
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