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在现代镀膜工艺中，借助激光淀积工艺已越来越重要。Smith，Turner, Groli和Hass演示利用激光束在真空中蒸发材料涂镀光学薄膜的可能性。自七十年代以来，激光化学蒸气淀积（LCVD)已用于涂镀微电子技术涂膜。本文叙述利用激光束蒸发涂镀具有较强抗激光损伤能力的激光反射镜。
用激光束蒸发涂镀激光反射镜
【摘 要】
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在现代镀膜工艺中，借助激光淀积工艺已越来越重要。Smith，Turner, Groli和Hass演示利用激光束在真空中蒸发材料涂镀光学薄膜的可能性。自七十年代以来，激光化学蒸气淀积（LCVD)已用于涂镀微电子技术涂膜。本文叙述利用激光束蒸发涂镀具有较强抗激光损伤能力的激光反射镜。
【出 处】
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激光与光电子学进展
【发表日期】
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1988年25期
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