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半导体生产废水中氟化物浓度较高，原有除氟工艺为二级加药[石灰、A1（SO）3]、二级沉淀，但出水氟化物不能达标。现将工艺调整为原水与石灰反应后即直接与A1（SO）3反应，再沉淀，同时改善反应条件。在基本不增加总投药量的情况下，出水氟化物浓度可稳定控制在8．0mg／L左右，达到了广东省《水污染物排放限值》（DB44／26--2001）的一级标准。