不同冷屏黑化工艺对红外探测器性能的影响

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结合红外探测器的光学性能设计,介绍了利用冷屏黑化层工艺来吸收和抑制杂散辐射的原理。基于同一种冷屏结构,对比了三种不同的表面黑化工艺,并测试分析了冷屏黑化层的表面吸收率等物理性能参数。通过红外探测器性能测试,分析了不同冷屏黑化工艺对红外探测器性能的实际影响。结果表明,在2~14μm波段,2#和3#冷屏黑化工艺的表面吸收率的一致性较好;在8~11μm波段,它们对红外探测器的杂散辐射具有良好的吸收与抑制效果。
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