高抗蚀性的聚酯型光刻胶

来源 :广东化工 | 被引量 : 0次 | 上传用户：hxhbj2009

【摘要】

：

<正> 聚酯型光刻胶是国内常用的光刻胶,其特点是分辨率高,可以刻蚀1～2μm的细线,因此在集成电路器件工业中常用于刻蚀细线。国内目前生产的聚酯型光刻胶是聚肉桂叉丙二酸乙二

【作者】

：

吕广镛杨年光黄建兴

【机构】

：

华南师范大学化学系; 华南师范大学化学系;

【出处】

：

广东化工

【发表日期】

：

1989年03期

【关键词】

：

光刻胶抗蚀性肉桂酸聚酯型

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<正> 聚酯型光刻胶是国内常用的光刻胶,其特点是分辨率高,可以刻蚀1～2μm的细线,因此在集成电路器件工业中常用于刻蚀细线。国内目前生产的聚酯型光刻胶是聚肉桂叉丙二酸乙二酯(乙胶),虽可刻蚀细线但抗蚀性较差,如提高其分子量以满足抗蚀性,则又仅可用于刻蚀4μm左右的线条。我们最近研究成功的JZ—YD胶(乙丁

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