【摘 要】
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本文介绍用扫描电镜(SEM)系统地研究脉冲频率f、频宽比tv、电流密度D_k和镀液成分等诸因素对镀层结构影响的结果,并以此为依据选择了脉冲电镀的最佳电气参数,使脉冲镀Ag、Au
【机 构】
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电子工业部十二所,电子工业部十二所,
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本文介绍用扫描电镜(SEM)系统地研究脉冲频率f、频宽比tv、电流密度D_k和镀液成分等诸因素对镀层结构影响的结果,并以此为依据选择了脉冲电镀的最佳电气参数,使脉冲镀Ag、Au、Ni等相继用于生产。此外,还用SEM对比观察了脉冲电镀层与直流电镀层结构上的差异。
In this paper, the effects of pulse frequency f, aspect ratio tv, current density D_k and the composition of plating solution on the structure of coatings were studied systematically by means of scanning electron microscopy (SEM). Based on this, the best electrical Parameters, so that pulse plating Ag, Au, Ni, etc. have been used in the production. In addition, the difference between the structure of the pulse plating layer and the DC plating layer was also observed by SEM comparison.
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