【摘 要】
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1.前言当前为了适应微电子学、光导纤维技术以及光盘和磁盘存储技术的大规模生产和工艺需要,要求几何结构和形状的公差控制在微米(甚至亚微米)的范围内。满足这个要求的测量
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1.前言当前为了适应微电子学、光导纤维技术以及光盘和磁盘存储技术的大规模生产和工艺需要,要求几何结构和形状的公差控制在微米(甚至亚微米)的范围内。满足这个要求的测量技术的最重要任务是能以高分辨率和低测量误差
1. INTRODUCTION Currently, in order to meet the needs of mass production and processing of microelectronics, optical fiber technology, and optical disk and disk storage technologies, geometrical and shape tolerances are required to be in the micrometer (or even sub-micrometer) range. The most important task of measuring technology to meet this requirement is to enable high resolution and low measurement error
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