片阻端面垂直溅射研究

来源 :电子质量 | 被引量 : 0次 | 上传用户:mipanglin
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该文针对片式电阻器的特点设计了垂直溅射工艺,研究了垂直溅射方式对片阻端头对称率及溅射层阻值的影响,并给出了试验数据.实验结果表明:垂直溅射工艺能提高片阻产品端头对称性,改善产品的外观.
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