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片阻端面垂直溅射研究
片阻端面垂直溅射研究
来源 :电子质量 | 被引量 : 0次 | 上传用户:mipanglin
【摘 要】
:
该文针对片式电阻器的特点设计了垂直溅射工艺,研究了垂直溅射方式对片阻端头对称率及溅射层阻值的影响,并给出了试验数据.实验结果表明:垂直溅射工艺能提高片阻产品端头对称
【作 者】
:
陈建华
谭正伦
【机 构】
:
广东风华高新科技股份有限公司
【出 处】
:
电子质量
【发表日期】
:
2015年6期
【关键词】
:
片阻
垂直溅射
端头对称率
阻值
sheet resistance
vertical sputtering
end symmetric rate
Value o
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该文针对片式电阻器的特点设计了垂直溅射工艺,研究了垂直溅射方式对片阻端头对称率及溅射层阻值的影响,并给出了试验数据.实验结果表明:垂直溅射工艺能提高片阻产品端头对称性,改善产品的外观.
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