折射微透镜制备中离子束刻蚀过程的计算机模拟

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建立氩离子束对光刻胶微透镜的刻蚀模型 ,模拟折射微透镜制备中的离子束刻蚀工艺过程。通过模拟可以预先获得离子束在不同倾斜入射状态下所得到的折射微透镜的截面轮廓 ,为优化离子束的刻蚀工艺奠定基础 ,同时也可以确定刻蚀过程的终点时刻。 The etching model of argon ion beam on the photoresist microlens is established and the ion beam etching process in the preparation of the simulated refractive micro-lens is simulated. Through the simulation, the cross-sectional profile of the refractile micro-lens obtained under different oblique incidence conditions can be obtained in advance, which lays a foundation for optimizing the etching process of the ion beam and can also determine the end moment of the etching process.
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