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采用射频磁控溅射法在Si（100）基片上沉积Ni0.5Zn0.5Fe2O4铁氧体薄膜，研究了薄膜厚度对其结构和性能的影响。结果表明，在800℃空气中退火时，Si基片与Ni-Zn铁氧体薄膜存在相互渗透。随薄膜厚度增加，薄膜样品晶格常数及晶粒尺寸增大，饱和磁化强度聪和矫顽力风均略有增加。
薄膜厚度对Ni—Zn铁氧体薄膜性能的影响
【摘 要】
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采用射频磁控溅射法在Si（100）基片上沉积Ni0.5Zn0.5Fe2O4铁氧体薄膜，研究了薄膜厚度对其结构和性能的影响。结果表明，在800℃空气中退火时，Si基片与Ni-Zn铁氧体薄膜存在相互渗透。
【机 构】
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电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室
【出 处】
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磁性材料及器件
【发表日期】
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2012年5期
【基金项目】
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基金项目：国家自然科学基金资助项目（51101028）：国家重点实验室基金资助项目（ZZKT200901）,中央高校基金资助项目（E022050205）
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